PURITY CONCEPT Systems
用于颗粒、薄片以及薄膜/胶带的检测及分析系统
SIKORA 公司推出的 PURITY CONCEPT 检测系统,用于满足在复合物、色母及回收材料中的不同需求,为实现最佳的材料品质及稳定的生产操作提供可靠的保障。
根据不同的应用需求,PURITY CONCEPT 系统可以配备X射线或光学传感技术,分别应用于生产过程中或者样品检测,并且该系统可以检测出50 µm以上的杂质。PURITY CONCEPT 系统结合了西科拉公司数十年来在线缆和管材行业的技术积累。
PURITY CONCEPT X 采用了 X 射线分析技术,用于检测和分析不透明颗粒或薄片中的金属杂质。通过模块化的设计,有色薄膜和板材也可以采用该系统进行检测。
PURITY CONCEPT V 采用了光学技术,用于检测和分析透明或不透明的颗粒或薄片。通过模块化的设计,有色薄膜和板材也可以采用该系统进行检测。
检测原理 * | PURITY CONCEPT X: X 射线检测 PURITY CONCEPT V: 光学CMOS线阵扫描彩色相机 |
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应用领域 | 颗粒、薄片、薄膜/胶带,板材和注塑部件 |
可检测的杂质 | PURITY CONCEPT X: 金属杂质、 不均一杂质、交叉污染的杂质 PURITY CONCEPT V: 在透明材料中的杂质及黑点,以及在非透明材料表面的黑点和变色杂质 |
最小可检测杂质颗粒大小 | X 射线检测: 50 μm (立方体 3D), 50 x 50 x 50 μm 光学检测: 50 μm (平面 2D), 50 x 50 μm |
工作环境温度范围 | +10 – + 40 °C |
通讯接口 | USB 选配:LAN |
工作电源 | PURITY CONCEPT X: 230 V AC (alternativ 100 V AC oder 115 V AC) ± 10%, 50/60 Hz PURITY CONCEPT V: 100 - 240 V AC ± 10 %, 50/60 Hz |
规格尺寸 | PURITY CONCEPT X: 1,309 x 831 x 1,882 mm PURITY CONCEPT V: 1,090 x 575 x 921 mm ( 宽度 x 高度 x 厚度 ) |