PURITY CONCEPT Systems

用于颗粒、薄片以及薄膜/胶带的检测及分析系统

根据不同的应用需求，PURITY CONCEPT 系统可以配备X射线或光学传感技术，分别应用于生产过程中或者样品检测，并且该系统可以检测出50 µm以上的杂质。PURITY CONCEPT 系统结合了西科拉公司数十年来在线缆和管材行业的技术积累。

PURITY CONCEPT X 采用了 X 射线分析技术，用于检测和分析不透明颗粒或薄片中的金属杂质。通过模块化的设计，有色薄膜和板材也可以采用该系统进行检测。

PURITY CONCEPT V 采用了光学技术，用于检测和分析透明或不透明的颗粒或薄片。通过模块化的设计，有色薄膜和板材也可以采用该系统进行检测。

检测原理 *	PURITY CONCEPT X: X 射线检测 PURITY CONCEPT V: 光学CMOS线阵扫描彩色相机
应用领域	颗粒、薄片、薄膜/胶带，板材和注塑部件
可检测的杂质	PURITY CONCEPT X: 金属杂质、不均一杂质、交叉污染的杂质 PURITY CONCEPT V: 在透明材料中的杂质及黑点，以及在非透明材料表面的黑点和变色杂质
最小可检测杂质颗粒大小	X 射线检测： 50 μm (立方体 3D), 50 x 50 x 50 μm 光学检测： 50 μm (平面 2D), 50 x 50 μm
工作环境温度范围	+10 – + 40 °C
通讯接口	USB 选配：LAN
工作电源	PURITY CONCEPT X: 230 V AC (alternativ 100 V AC oder 115 V AC) ± 10%, 50/60 Hz PURITY CONCEPT V: 100 - 240 V AC ± 10 %, 50/60 Hz
规格尺寸	PURITY CONCEPT X: 1,309 x 831 x 1,882 mm PURITY CONCEPT V: 1,090 x 575 x 921 mm ( 宽度 x 高度 x 厚度 )

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